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岡田 漱平; 金子 広久; 河裾 厚男; 益野 真一*; 須永 博美; 滝沢 春喜; 四本 圭一
JAERI-Conf 95-021, 0, p.422 - 424, 1995/10
100MeV、100kW級の電子リニアックを用いて高強度単色陽電子ビームの発生と多分野への利用を目指すポジトロンファクトリー計画について、ターゲット(電子/単色陽電子変換部)などの要素技術の研究開発の現状を報告する。また、ポジトロン利用技術の開発のため先行的に進めているMeVパルスポジトロンビーム形成の現状について、イオンビームを利用した陽電子内部線源法の技術開発と関連させて報告する。